產品參數
整機尺寸 ≤1.1（L)×0.9（W)×2（H)（單位：M）
極限真空 ≤3×10 -5Pa 保壓12小時 壓強≤5P a
膜厚均勻性 ≥95% 重復性 ≥95%
基片尺寸 ≤32×32mm 數量4片
有12個mask位置 每個基片對應3個位置
適用范圍
鈣鈦礦材料、二維材料、光伏太陽能電池及O L E D器件制備等。
產品特色
高集成設計，整體尺寸小，操作系統在工控機或觸摸屏界面完成。
恢復工作真空快，大氣至5.0x10-4Pa≤15分鐘。
有8組蒸發源，可雙源共蒸，真空環境可更換2次mask。
