產品參數
整機尺寸 ≤1.2（L)×0.9（W)×2（H)（單位：M）
極限真空 ≤2×10 -5Pa 保壓12小時 壓強≤5P a
膜厚均勻性 ≥95% 重復性 ≥95% 速率穩定性≥95%
基片尺寸 ≤210×210mm
可適配電子束蒸發系統
適用范圍
鈣鈦礦器件研發、光電器件結構優化等，兼容晶硅鈣鈦礦器件制作。
產品特色
膜厚均勻性高，重復性強，速率穩定性高。
有8+16組蒸發源，可做到4源共蒸。
靈活性好，兼容性高，不超過210mm面積皆可切換。
可蒸鍍腐蝕性鈣鈦礦材料，對材料限制性低。
